Deep Dive
- 纳米压印技术与光刻技术几乎同时发展，但由于光刻技术在光学控制上的快速进展，纳米压印技术一度被超越。
- 纳米压印技术具有高分辨率、成本低等优势，但也存在缺陷率高等不足。
- 佳能公司推出的纳米压印设备在技术指标上已与DUV光刻技术持平，部分指标甚至达到EUV光刻技术的水平。
- 纳米压印技术已在LED、AR/VR等领域得到应用，未来有望在半导体领域实现弯道超车。
- 国家自然科学基金已将纳米压印技术列入未来芯片制造的研究方向。
Shownotes Transcript
【本期课题】
纳米压印。
【本期主播】
颜黔杭，峰瑞资本副总裁。
【本期嘉宾】
葛海雄，璞璘科技创始人、南京大学现代工程与应用科学学院教授。2001年至2003年，葛海雄在美国普林斯顿大学做博士后，师从纳米压印技术发明人周郁（Stephen Y. Chou）教授，2004年加入南京大学后继续围绕纳米压印技术开展研究工作，深耕纳米压印与微纳制造领域二十余年，发表与纳米压印技术相关学术论文100多篇、授权发明专利30余项。
邓萌萌，璞璘科技联合创始人兼CEO。邓萌萌拥有中国科学技术大学硕士学位，也曾在香港大学学习与工作。他于2016年开始创业，拥有十余年微纳加工及纳米压印技术从业经验、多年微纳高科技企业项目管理及企业运营经验，发表数篇微纳加工科技文献，拥有近30项产业相关专利，其中美国发明专利一项。
【栏目介绍】
在《产业观察》这档专栏里，我们会为你厘清不同产业的历史沿革，希望能够从中找到一些底层的规律。虽然当下变化迭起，但是所有新风口都有迹可循，不同产业的发展其实也有很多相似之处。
【免责声明】
本节目的所有内容并非旨在提供任何形式的建议，包括但不限于投资、税收、会计或者法律上的建议。
【内容索引】
00:19 纳米压印是一项与光刻机几乎并行发展的半导体微观制成的工艺，今天我们熟知的、中国被卡脖子技术就包括光刻机
03:15 前段时间佳能宣布推出能够媲美DUV光刻机的纳米压印设备，并将它用到半导体的加工工艺中，纳米压印究竟是什么？它是光刻技术的替代选项，还是竞争对手？
05:00 业界有种说法是，我国古代活字印刷的发明人毕昇是纳米压印的“鼻祖”：活字印刷的模板上刻有要印的字，纳米压印的模板上是我们需要制造的纳米结构，然后通过加热加压把这个纳米结构复制在纳米压印的材料里，这个过程跟用模具做月饼也类似
10:00 纳米压印技术已经有20多年的发展历史，为什么会在最近突然火起来？
10:17 纳米压印技术一出现，就因为它的高分辨率引人注目，但是纳米压印也有短板，因为它是一种物理接触式的加工技术，容易产生缺陷，所以也会有些人因为它的缺陷率而否定它，认为它不适合半导体加工
11:17 从最近佳能公司的报道来看，它的纳米压印各项技术指标已经与DUV的光刻技术持平，有一些指标甚至达到了EUV 光刻技术的水平
13:27 就技术本身而言，纳米压印和光刻各自的优劣势是什么？
14:34 同样是精度要求极高的微纳加工技术，为什么纳米压印的成本比光刻技术低不少？
17:16 佳能在纳米压印的重点布局会对整个半导体行业上游制造的设备供应方带来什么样的影响？它的新动作和公告是否会给市场带来一些新变化？
19:32 纳米压印进入半导体领域，有哪些技术难关已经得到解决，哪些还是当前的拦路虎？
21:41 目前来看，相对来说解决的比较好的是更洁净的纳米压印环境、更高的对准精度，还有待提高的是模板精度
25:43 最近国家自然科学基金也在探讨摩尔定律失效后，半导体器件是否还遵循摩尔时代半导体器件的规律，纳米压印也被认为可能用于1纳米或者是亚纳米以下的一些器件的制造
26:31 如今国内不少先进制程的技术与设备都被封锁了，目前国内哪些领域可以借纳米压印实现弯道超车？
29:24 纳米压印不仅能应用在半导体上，它的应用主要针对三大行业：第一是显示及消费电子类行业，第二是汽车行业，第三是生物医学行业
35:50 刚刚我们提到的这几个场景里，有没有一些场景只适合纳米压印，而不太适合光刻？璞璘科技在跟客户打交道的过程中，哪些客户是在预期之外的？
37:28 让我们感到意外的领域其实是新能源，尤其是钙钛矿这个行业
40:28 葛老师过去20年一直是学者身份，从科研转向创业，葛老师有哪些心得可以供其他想做科技创业的学者参考？
41:24 我们需要“顶天立地”，既要做前沿的科研，又要让技术能落地，最终为日常生活服务，为技术进步与生产服务
42:26 纳米压印和光刻一样，是具有和需要工匠精神的技术
46:12 往未来看，光刻技术与纳米压印技术会是一种什么样的关系，它们在产业里的位置又会如何？
【本期相关】
03:15 据日本《朝日新闻》报道，日本佳能公司历时10年研发的新技术产品——可用于半导体制造的一种光刻设备已经正式开售。上述新设备能否动摇阿斯麦(ASML)的霸主地位受到广泛关注。佳能公司18日在横滨市举行了技术展示会，展示了新的“纳米压印”光刻设备。这是一种在半导体晶圆上绘制精密电路的设备。
佳能推出的纳米压印设备。图片来源：佳能全球官网
03:20 DUV，全称是Deep Ultraviolet Lithography。DUV是深紫外线光刻。可用于制造7纳米-130纳米制程的芯片。
11:28 EUV，全称是Extreme Ultraviolet Lithography，即一种使用极紫外光波长的光刻技术。目前用于7纳米以下先进制程芯片。
25:44 “芯片亚纳米级制造前沿探索”项目，2023年度国家自然科学基金指南引导类原创探索计划项目。项目围绕未来芯片制造面临的共性基础科学问题，旨在通过揭示表界面亚纳米级尺度的定域、定量、定势调控机制，建立亚纳米级精度表面与结构的可控加工方法，为发展原子级制造开展先导性探索，支撑新一代芯片制造关键工艺和装备能力的升级换代。（来源：国家自然科学基金委员会官网)）
【本期图示】
纳米压印步骤：
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文字版内容，可在峰瑞资本公众号查看。
从光刻机到纳米压印，半导体行业拐角处的挑战与机遇 | 峰瑞创投对话)
【制作团队】
主理人：李翔 、李丰
制作及统筹：张英海 （13514156656）、峰小瑞（[email protected]）
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